فایل ورد مقالات

 

مقاله Epitaxial SiدرGe Heterostructures and Nanostructures for Optical and Electrical Applications دارای 4 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله Epitaxial SiدرGe Heterostructures and Nanostructures for Optical and Electrical Applications کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله Epitaxial SiدرGe Heterostructures and Nanostructures for Optical and Electrical Applications،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

---

بخشی از متن مقاله Epitaxial SiدرGe Heterostructures and Nanostructures for Optical and Electrical Applications :

سال انتشار: 1386

محل انتشار: دومین کنفرانس نانوساختارها

تعداد صفحات: 4

چکیده:

We present SiGe/Si heterostructures and nanostructures grown by plasma-enhanced chemical vapour deposition (LEPECVD) and processed by optical lithography, electron beam lithography as well as wet chemical and reactive ion etching. Structures based on strained-Ge quantum wells exhibit excellent electrical and optical properties, like hole mobilities up to 120,000 cm2/Vs and sharp excitonic features in the absorption spectra. New device functions are obtained on modulation doped structures patterned by nanolithography

 

 

دانلود این فایل

 

کلمات کلیدی :